。
3，測(cè)量件曲率，試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響，這種影響是隨著曲率半徑減小顯著增大。因而不應(yīng)在試件超出允許的曲率半徑的彎曲面上測(cè)量。
5，被測(cè)物體外表面粗糙度，基體金屬和外表面粗糙度對(duì)測(cè)量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙外表面會(huì)致使系統(tǒng)誤差和偶爾誤差，每次測(cè)量時(shí)，在不同地方上應(yīng)添加測(cè)量的次數(shù)，以克制這種偶爾誤差。假如基體金屬粗糙，還必需在未涂覆的粗糙度相似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校正磁性涂層測(cè)厚儀的零點(diǎn)；或用對(duì)基體金屬?zèng)]有侵蝕的溶液溶解除去覆蓋層后，再校正磁性涂層測(cè)厚儀的零點(diǎn)。
6，磁場(chǎng)，被測(cè)物體四周磁場(chǎng)會(huì)預(yù)擾磁性測(cè)量，影響鐵基涂層測(cè)厚儀精度。
7，附著物質(zhì)，鐵基涂層測(cè)厚儀對(duì)那些阻礙探頭與覆蓋層外表面嚴(yán)密接觸的附著物質(zhì)敏感。因而必需消除附著物質(zhì)，以保障探頭與覆蓋層外表面直接接觸。
8，測(cè)量進(jìn)程中探頭的置放，探頭的放的方式對(duì)測(cè)量有影響，在測(cè)量中使探頭與試樣外表面維持垂直。這是鐵基涂層測(cè)厚儀（其余測(cè)厚儀，如超聲波測(cè)厚儀也是這樣）測(cè)量中要注意的問(wèn)題。
9，試片的變形及試片本身的誤差，探頭使軟覆蓋層試件變形，因而在這些試件上會(huì)呈現(xiàn)一定的誤差。
10，測(cè)量次數(shù)