膜厚儀，分為手持式和臺(tái)式二種

，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀

，是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過計(jì)算二次熒光的能量來計(jì)算厚度值。

基體金屬特性

對(duì)于渦流方法

，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

基體金屬厚度

檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度

，無損檢測(cè)資源網(wǎng) 如果沒有，可采用3.3中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)。

邊緣效應(yīng)

不應(yīng)在緊靠試件的突變處

，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。

曲率

不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量

。

讀數(shù)次數(shù)

通常由于膜厚儀的每次讀數(shù)并不*相同